学姐顺着许的目光看去，主动介绍道：
“这个是晶振装置，探头处装有晶振片，用来实时检测蒸镀的薄膜厚度。它的位置一定不能乱动，因为现在的参数是已经标定过的，如果移动了它的位置，对膜厚的检测结果就不标准了。此外晶振片也是有寿命的，所以需要定期更换晶振片，并重新标定厚度。”
舱体最上面是一块大的圆形金属挡板，以及一个可以旋转的样品台。
“上面这个肯定是样品台了，为什么下面要加装一块金属挡板呢？”许问道。
“这块金属挡板叫做样品挡板，当他处于开启状态时，可以有效阻挡气体分子沉积在样品表面。因此，我们可以利用它，控制蒸镀的开始和结束时间，得到精确的厚度。”陈婉清道。
将舱内情况了解完毕后，许开始做蒸镀前的准备工作。
两批基片的器件结构不同，需要分两次进行蒸镀。
第一批是正常结构，也就是蒸镀钙和铝。
许首先在钨篓装满99995纯度的铝锭，然后让学姐帮忙打开钙束源炉的挡板。
挡板的开关是数控的，需要在手套箱外的总控台操作。
打开挡板后，他取出束源炉内部的陶瓷坩埚，将上次使用后剩余的残渣倒出，再加入两勺新的99995纯度的钙粉末。
陶瓷坩埚是特质的，可以至少承受1000摄氏度以上的高温，且十分稳定，不会与靶材反应，产生杂质。
完成后，他让学姐关闭束源炉挡板。
最后，他将一片片基片正面朝下放置在样品支架上，再将样品支架放回样品台。
第二十章 真空镀膜（上）(3/4)