十二分钟后。
温度示数达到400摄氏度，膜厚仪显示的实时蒸镀速率，在-001至001埃每秒之间波动，膜厚显示仍为000埃。
三分钟后。
温度示数继续增加，直至480摄氏度左右，蒸镀速率开始在000至003埃每秒之间波动。
当温度达到520摄氏度后，蒸镀速率维持在020至030埃每秒。
许先开启样品台旋转，在等待了约十秒钟后，同时打开样品挡板并将膜厚仪的膜厚计数器归零。
钙要蒸镀10纳米的厚度，也就是100埃。
……
待膜厚仪示数达到100埃时，许迅速关闭样品挡板。
随后，他将束源炉升温数控装置关闭，让束源炉自然降温。
最后，将膜厚仪的参数改为铝的参数。
……
半小时后。
束源炉的温度降低至77摄氏度。
许关闭钙的束源炉挡板，打开电流加热装置。
这个加热装置很简单，就是把电源、钨篓、电位器（类似于滑动变阻器）、保险丝、电流计连在一起，通过调节电位器，便可以改变电路的电流大小。
许缓慢扭动电位器的旋钮，使电流计示数从0逐渐增加至18安培。
当电流达到16安培时，膜厚仪上蒸镀速率开始有了示数。
电流达到18安培后，许等待了几秒，然后同时打开样品挡板并清零膜厚仪的膜厚计数器。
蒸镀速率则先是从02、03迅速提升至30，随后迅速回至18，之后缓
第二十一章 真空镀膜（下）(4/6)