些献，发现制备银纳米线导电薄膜的常用方法，是刮涂、滴涂，以及“slot-die”的方法。
所谓“slot-die”的方法，有点像是刮涂的进阶版本，就是在基片上方一定高度处放一个窄槽，这个窄槽里面不断注入有效层或者传输层溶液，这些溶液会从窄槽滴，到基片上成膜，因为是窄槽，所以形成的薄膜也是细细的窄膜。这个时候，让溶液在滴的过程，以一定的速率同步的移动窄槽，就可以使得滴后的溶液扑满窄槽扫过的面积，也即得到一层薄膜。
“slot-die”和刮涂的区别就是刮涂是先把溶液滴在基片上，而“slot-die”是溶液在窄槽内，然后一点点的往出流，因此工艺难度很稍微高一些。
许的这番操作，其实也是他在遇到实验失败时的常规步骤：
首先根据实验现象推断可能的原因；
然后用便宜的方法（万用表）初步确认原因；
再用贵的方法（各种电镜）确认原因，当然如果组里没钱的话，这一步可以省略；
接着，去小虫子看看其他人有没有类似的情况，他们是怎么解决的；
最后翻献，找到解决或者替代的方法。
这些顺序也不是完全固定的，可以根据实际需要进行调整。
另外，之所以首先要去小虫子逛逛，是因为这里是关于科研的论坛，大佬们层出不穷，如果能精准的搜索到别人已经解决的问题，就会省下不少时间，类似于程序圈里用别人造好的轮子。
毕竟，检索sci论花费的时间可不少，很多时候可能一个小时过去了，好不容易找到了几
388 哇，世界纪录又被我打破了呢(3/8)