蒸镀舱的真空度达标后，许和莫琳又回到实验室，先按照正常的方法用束源炉加热法蒸镀了三氧化钼。
之后等待束源炉温度降低至100摄氏度以下，开始准备蒸镀金属电极。
平常蒸镀厚膜金属电极的时候，蒸镀的速率并不是很重要，有的时候赶时间，还会直接用闪蒸的操作方式制备电极。
所谓闪蒸，突出一个字“闪”，就是直接用大电流，在不烧断保险丝的前提下，把蒸镀速率拉满，嗖的一下就把膜给镀好了。
对比一下，正常蒸金属电极是大约1埃每秒，即01纳米每秒的蒸镀速率，蒸100纳米需要大约17分钟。
而闪蒸的速率可能会达到6埃每秒，甚至10埃每秒以上，直接几分钟就能搞定。
除了蒸的快，闪蒸还有另外一个优点，那就是蒸的厚，对靶材的利用率高。
尤其是平常在蒸镀金的时候，因为金比较贵嘛，所以为了防止浪费，都是尽量少加金靶材，然后直接闪蒸的。
根据许的经验，如果闪蒸把金全部蒸完，得到的金膜厚度是100纳米的话，正常速率蒸镀得到的厚度可能就只有30-50纳米，差距还是非常大的。
凡事有利就有弊，闪蒸也是有缺点的，那就是会让蒸镀得到的薄膜变得不均匀。
举一个不太形象的例子，可以把蒸镀的过程想象下冰雹的过程，器件表面想象成为泥土地面，蒸镀速率越快，冰雹颗粒越大，下的速度越快，就更容易把地面给砸出坑来。
对应在蒸镀过程的体现，就是蒸镀速率越快，靶材分子越会倾向于渗入有效层或者传输层薄膜，从
392 为科学献身的时候到了(1/6)