当时，许听到田晴的解释也没有太过在意，只当她是在给自己划水找借口。
现在想想，田晴当时可能并不是在说谎，她确实发现了一个独特的实验现象。
而且，她说的这个现象，或许也是具有普适性的，比如在叠层器件同样适用。
也就是说，当器件制备完成后，不立刻进行测试，而是让它们在蒸镀舱内的真空环境放置一定的时间，有几率会引起器件性能的提高。
这个变量比之前实验者的那个变量要更加容易验证一些。
许直接在模拟实验室开始操作，摸索不同体系的器件性能，随蒸镀完成后在蒸镀舱内放置时间的变化趋势。
其，所选择的体系包括各种经典二元单结体系，pce10:pcbic等，以及最新的几种叠层体系。
放置时间从0、1、3、6、9、12、18、24小时……不等。
接下来，继续测试。
除了第一片器件的效率达到了1615外，后面测到第七片的时候，再次出现了效率更加高的器件，达到了1624，反超了模拟实验室1622的结果。
而且，能更佳的第七片器件，加工条件并非是模拟实验室摸索出来的最优条件。
这倒是比较好理解，模拟实验室的最优条件其实是针对于许的实验操作，现在出现了两个新的变量，最优条件大概率也会随之而改变。
最终，许和韩嘉莹两人在实验室里忙活到了晚上十点五十分，终于把所有的数据都拿到手。
eqe曲线积分得到的短路电流密度与j-v曲线的结果基本一致，误差在5以
465 连续突破，剑指17%！(4/11)