市开展。
72年，江城无线电元件三厂编写出版了《光刻掩模版的制造》。
65年，科学院研制出65型接触式光刻机。
随后，申河光学机械厂也试制成功了半自动接触式光刻机。
70年代，科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。
70年代末，科学院半导体所，开始研制jk-1型半自动接近式光刻机。并在81年研制成功两台样机，而且还在生产线中投入使用！
水木大学研制第四代分步式投影光刻机，且80年获得成功！
光刻精度达到3微米，接近当时得国际主流水平！
机电部45所也研制出了分步光刻机样机，采用436纳米g线光源。
然而，在80年代的时候。我们因为种种考虑。不得已，放弃了电子工业的自主攻关，诸如光刻机等科技计划被迫下马。
之前所说的，江城无线电元件三厂，94年破产改制，卖副食品去了！
这些个种种，不论如何，确实令人很遗憾。
可是，仔细想想，只能深深叹息一声！
在当时，我们的整体社会，根本没有这些电子工业的需求，没有市场赚不到钱。至于欧美发达市场，根本进不去。
无法赚钱，就无法形成完整产业链！
偏偏，这些个行业的发展，需要的资金极为庞大。与此同时，也需要市场实际应用，获得详细数据，去提升相关工艺。
真以为那时候，有识之士看不到未来电子工业的前景吗？
华国从来不缺少聪明人！
第352章 ?又一个重要节点(7/9)