475 比自己弱的人都在努力，自己又有什么理由不努力呢？
这时候就需要反复进行“调整、蒸镀、测试”过程，直到理论和实际相符合。
第二种，是以现在的晶振装置位置，去重新标定各项蒸镀参数，比如z因数等等。
这种方法挺起来也挺简单的，但因为仪器是集成好的，内部的具体原理，以及计算膜厚的公式只有厂家那边知道，对于用户来说，想要自己去标定参数，难度还是有些大的。
所以大概率只有把厂家喊过来，才能进行维修，而这种高价的仪器，如果喊来厂家来维修，费用基本都是大几千甚至上万的。
两种方法，许权衡了一番，最终选择了第一种，毕竟，他有系统可以帮忙摸索嘛。
现在，许已经把复制到模拟实验室的这台调试好了，到时候返校过后他打算去一趟江弯，提前把现实的那台也调好。
另外，其实还有第三种调整方法，虽然不是很提倡，但也不失为一种方法。
那就是忽略实际上的膜厚，只用仪器显示出来的数据作为参照。
也就是说，我们不去管实际膜厚是多少，就认定仪表显示出来的结果是相对正确的，哪怕仪器数据和实际数据之间的误差会很大。
因为这种方法不需要标定实际的厚度，可以直接进行优化，所以比较节省时间。
而且，对自己课题组内部的研究也没什么影响，只要找到最佳的条件，并一直沿用即可。
不过，如果把章发表了出去，可能会导致同行们很难重复实验结果。
像是蒸镀传输层、电极的话，其实倒还好，因为这些对于器件性能的影响并不是很大，膜厚差10-20，最终效率的绝对
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