具有图形的光罩，对涂有光刻胶的薄片曝光。”
“光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，薄片就有了电子线路图的作用。”
“光刻实时上，也不过六七十年发展历史。”
“47年，贝尔实验室发明第一只点接触晶体管。59年，仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片。”
“60年代，仙童提出cmosic制造工艺，并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线。gca公司开发出光学图形发生器和分布重复精缩机。”
“70年代，gca开发出第一台分布重复投影曝光机，集成电路图形线宽从1.5μm缩小到0.5μm节点。”
“80年代，svgl公司开发出第一代步进扫描投影曝光机，集成电路图形线宽从0.5μm缩小到0.35μm节点。”
“90年代中后期，光学光刻分辨率到达70nm的极限。”
“新世纪以来，业内在已经不得不动手研究，包括极紫外线光刻技术，电子束光刻技术，x射线光刻技术，纳米压印技术等。”
“现有的光刻机构造，一般分为，照明系统、stage系统、镜头组、搬送系统、alig系统。”
“新的各种光刻技术研究中。普遍的把软x射线投影光刻称作极紫外投影光刻。”
“当前，对极紫外投影光刻euv技术的研究最为深入，也取得了突破性的进展，使极紫外投影光刻技术最有希望被普遍使用到以后的集成电路生产当中。”
“是距实用化最近的一种深亚微米的光刻技术。”
第345章 ?首要目标(2/8)