“业内，普遍有一种认知，如果不早点推出极紫外光刻技术，来对当前的芯片制造方法做出全面的改进，将使整个芯片工业处在岌岌可危的地步。”
“所以，其实新时代的节点，变革点，已经能够清晰的预见。”
“极端紫外光刻技术所使用的光刻机的对准套刻精度要达到10nm，其研发和制造原理实际上和传统的光学光刻在原理上十分相似。”
“对光刻机的研究重点，是要求定位要极其快速精密，以及逐场调平调焦技术。因为光刻机在工作时拼接图形，和步进式扫描曝光的次数很多。不仅如此，入射对准光波信号的采集，以及处理问题还需要解决。”
“euv技术的进展还是比较缓慢的，投资巨大。当前，其实没有几家厂商，能够将这项技术应用于生产中。唯一的asml公司，做出来的东西，也仅仅算是勉强能用。”
“各家厂商都清楚，半导体工艺向往下刻，使用euv技术是必须的。波长越短，频率越高，光的能量正比于频率，反比于波长。”
“但是因为频率过高，传统的光溶胶直接就被打穿了。现在，半导体工艺的发展已经被许多物理学科从各个方面制约了。”
“现在的问题的是，第一，euv光刻机造价太高，好几千万优元。”
“第二，没有真正合适的光源。”
“第三，没有合适的掩模。第四，未研发出合适的光刻胶！”
“所以，我是打算，咱们可以在光源上，琢磨琢磨。”
说道这里，辛启天颇有些意犹未尽舔了下嘴角，眼神放光的说道：“其实如
第345章 ?首要目标(3/8)